闭环之困：损耗与机遇并存 ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。
当前，铟的主要消费领域集中在ITO靶材上，其占比高达约70%。此外，半导体制造和合金领域的需求也不容忽视，两者合计占总消费量的24%，而其他研究领域则占据了6%。然而，由于ITO制造过程中靶材利用率仅达30%左右，导致大量剩余材料成为废料。加之电子废弃物的激增，铟回收已成为资源可持续利用不可或缺的一环。随着技术进步和应用需求的增长，ITO废料回收能有效减少原矿资源消耗，实现资源的可持续性发展。
物理分离法中的机械剥离技术，是通过破碎、筛分和浮选等方法，将ITO涂层与玻璃基板进行分离。随后，再结合化学处理对分离出的ITO涂层进行铟的提取。这种方法主要适用于LCD面板的回收，但需注意，其纯度可能相对较低。
ITO靶粉回收虽具有较高价值，但实际操作中需注意以下几点： 1.防护。回收过程涉及强酸、有机溶剂等化学品，操作人员需穿戴防护装备，避免直接接触。工作场所应保持良好的通风条件，防止有害气体积聚。 2.环境保护。回收过程中产生的废水、废渣需妥善处理，避免对环境造成污染。酸性废液应中和后再排放，有机溶剂应尽量回收利用或进行无害化处理。 3.质量控制。回收得到的金属铟需经过严格检测，确保其纯度符合再次生产的要求。杂质含量过高会影响终产品的性能。 4.经济性分析。回收项目需综合考虑成本与收益，包括原材料收集、化学品消耗、能源使用及设备折旧等因素。企业可根据自身情况选择合适的回收规模和技术路线。