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获得被检索集成电路布图设计信息（登记号、申请日、公告日、布图设计名称、布图设计类别、权利人、布图设计创作完成日期等），进行检索后筛选获得所需集成电路布图设计信息。

需注意：

布图设计在申请日之前没有投入商业利用的，该布图设计登记申请可以有保密信息，其比例多不得超过该集成电路布图设计总面积的50%。

含有保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数应当与布图设计登记申请表中所填写的一致。

除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人不得查阅或者复制该保密信息。

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